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为了专升本:开局掌握光刻机技术

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第502章 1nm光刻机技术突破(3/3)
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  “至于什么好事,想必也就是工艺上突破的问题了吧!”

    目前刘聪能想到的,只有这种可能了。

    “刘院士,你猜的一点都没有错!”

    “我们工艺突破了,真的突破了!”

    “我们突破1n了!!”

    “这可真的是史无前例啊!”

    吴老尤为激动,他从来都没有像今天这么高兴过。

    “刘院士,我也真的没有想到,前几天我们才刚突破2n技术,今天我得到这个消息的时候,我都感觉很是梦幻。”

    “我到现在都感觉这是在做梦,这一切都是那么的不真实!”

    吴老的心情如此,刘聪的心情也是如此。

    他也是非常激动的,1n技术的突破也就意味着他的芯片问题将会在不久之后就会得到解决。

    “吴老,您先别激动,您能跟我说说你们是怎么在这几天之内怎么把技术突破的呢?”刘聪很是好奇的问道。

    当下,吴老就给刘聪解释道:“是这样的。”

    “自从那天你走后,王院士带着自己的团队日以继夜的搞研发。”

    “在排除所有硬件问题之后,我们终于找到了软件上的问题。”

    “原因就是光刻镜所反射的光线要偏离0000000000001米,这样几千道光线这么折射下来的时候,偏差就会很大了。”

    最后,在程序部的算法改进之下,我们总算是把这个最大的问题给解决了。

    “就这样,我们1n的光刻技术就这么轻松的突破了”

    “是不是很梦幻?”吴老问道。

    刘聪点了点头,“是很梦幻,我也没有想到会是这样的突破!”

    “是啊,的确很是梦幻,就算咱俩现在坐在这里交谈我还是感觉不太现实,这种感觉实在是太梦幻了!”吴老感叹道。
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